Testreszabott formájú zafír optikai ablakok zafír alkatrészek precíziós polírozással

Rövid leírás:

Az egyedi formájú zafír optikai ablakok a precíziós optikai mérnöki munka csúcsát képviselik, Czochralski által növesztett monokristályos Al₂O₃-t használva, szabályozott kristálytani orientációval (jellemzően C-tengely vagy A-tengely), hogy optimalizálják a teljesítményt az adott alkalmazásokhoz. Saját fejlesztésű kristálynövekedési eljárásunk kivételes homogenitású (<5×10⁻⁶ törésmutató-variáció) és minimális zárványtartalmú (<0,01 ppm) anyagot eredményez, biztosítva a konzisztens optikai teljesítményt a gyártási tételek között. Az ablakok figyelemre méltó környezeti stabilitást biztosítanak, 5,3×10⁻⁶/K hőtágulási együtthatóval (CTE) a C-tengellyel párhuzamosan, lehetővé téve a zökkenőmentes integrációt a hőciklusoknak kitett, több anyagból álló szerkezetekbe. Fejlett polírozási technikáinkkal 0,5 nm RMS alatti felületi érdességet érünk el, ami kritikus fontosságú a nagy teljesítményű lézeralkalmazásoknál, ahol a felületi hibák károsodást okozhatnak.

Vertikálisan integrált gyártóként az XKH átfogó megoldásokat kínál az anyagszintézistől a végső ellenőrzésig:

Tervezési támogatás: Mérnöki csapatunk DFM (Design for Manufacturing) elemzést kínál Zemax és COMSOL szimulációk segítségével az ablakgeometria optimalizálása érdekében az adott optikai/mechanikai követelményekhez igazítva.

Prototípus-szolgáltatások: Gyors átfutási idő (<72 óra) a koncepció validálásához saját CNC köszörülési és MRF polírozási képességeinkkel

Bevonati lehetőségek: Egyedi AR bevonatok, amelyek tartóssága meghaladja a MIL-C-675C szabványokat, beleértve:

Szélessávú (400-1100 nm) <0,5%-os visszaverődés

VUV-optimalizált (193 nm) >92%-os áteresztőképességgel

Vezetőképes ITO bevonatok (100-1000Ω/sq) EMI árnyékoláshoz

Minőségbiztosítás: Teljes körű metrológiai csomag, beleértve:

4D PhaseCam lézeres interferométerek λ/20 síkfelület-ellenőrzéshez

FTIR spektroszkópia spektrális transzmissziós térképezéshez

Automatizált ellenőrző rendszerek 100%-os felületi hibák szűrésére

Küldjön nekünk e-mailt

Jellemzők

Műszaki paraméterek

Zafír ablak
Dimenzió	8-400 mm
Mérettűrés	+0/-0,05 mm
Felületi minőség (karcolás és ásás)	40/20
Felületi pontosság	λ/10per@633nm
Tiszta rekesz	>85%,＞90%
Párhuzamosság-tűrés	±2''-±3''
Fazetta	0,1–0,3 mm
Bevonat	AR/AF/ügyfél kérésére

Főbb jellemzők

1. Anyagi fölény

· Fokozott hőtulajdonságok: 35 W/m·K hővezető képességet mutat (100°C-on), alacsony hőtágulási együtthatóval (5,3×10⁻⁶/K), amely megakadályozza az optikai torzulást gyors hőmérséklet-változások esetén. Az anyag megőrzi szerkezeti integritását még akkor is, ha 1000°C-ról másodpercek alatt szobahőmérsékletre melegszik.

· Kémiai stabilitás: Nulla lebomlást mutat tömény savaknak (HF kivételével) és lúgoknak (pH 1-14) hosszabb ideig tartó kitéve, így ideális vegyipari feldolgozó berendezésekhez.

· Optikai finomítás: A fejlett C-tengelyes kristálynövekedésnek köszönhetően >85%-os áteresztőképességet ér el a látható spektrumban (400-700 nm), 0,1%/cm alatti szórási veszteséggel.
· Az opcionális hiper-félgömb alakú polírozás a felületi visszaverődéseket <0,2%-ra csökkenti felületenként 1064 nm-en.

2. Precíziós mérnöki képességek

· Nanoskálájú felületkezelés: A magnetoreológiai kidolgozás (MRF) alkalmazásával <0,3 nm Ra felületi érdesség érhető el, ami kritikus fontosságú a nagy teljesítményű lézeralkalmazásoknál, ahol az LIDT meghaladja a 10 J/cm²-t 1064 nm-en, 10 ns impulzusok esetén.

· Komplex geometriájú gyártás: 5 tengelyes ultrahangos megmunkálást alkalmaz mikrofluidikai csatornák (50 μm szélességtűrés) és diffraktív optikai elemek (DOE) létrehozására <100 nm-es jellemzőfelbontással.

· Metrológiai integráció: A fehér fényű interferometria és az atomerő-mikroszkópia (AFM) kombinációja a 3D felület jellemzésére, biztosítva a <100 nm-es PV alakpontosságot 200 mm-es hordozókon.

Elsődleges alkalmazások

1. Védelmi rendszerek fejlesztése

· Hiperszonikus járműkupolák: Úgy tervezték, hogy ellenálljon az 5+ Mach aerotermikus terheléseknek, miközben fenntartja az MWIR átvitelt a keresőfejek számára. A speciális nanokompozit peremtömítések megakadályozzák a delaminációt 15G rezgésterhelés alatt.

· Kvantumérzékelő platformok: Az ultra-alacsony kettős törésmutatójú (<5 nm/cm) változatok lehetővé teszik a precíziós magnetometriát a tengeralattjáró-felderítő rendszerekben.

2. Ipari folyamatok innovációja

· Félvezető Extreme UV Litográfia: A <0,01 nm felületi érdességgel rendelkező AA minőségű polírozott ablakok minimalizálják az EUV (13,5 nm) szórási veszteségeket a léptetőrendszerekben.

· Atomreaktor monitorozása: A neutron-áteresztő variánsok (izotópos tisztítással előállított Al₂O₃) valós idejű vizuális monitorozást biztosítanak a IV. generációs reaktormagokban.

3. Feltörekvő technológiai integráció

· Űrbe épített optikai kommunikáció: A sugárzásnak ellenálló változatok (1 Mrad gammasugárzás után) >80%-os átvitelt biztosítanak a LEO műholdak lézeres keresztkötéseihez.

· Biofotonikus interfészek: A bioinert felületkezelések lehetővé teszik a beültethető Raman spektroszkópiai ablakok használatát a folyamatos glükózmonitorozáshoz.

4. Fejlett energiarendszerek

· Fúziós reaktor diagnosztika: A többrétegű vezetőképes bevonatok (ITO-AlN) plazmavizsgálatot és EMI-árnyékolást biztosítanak a tokamak berendezésekben.

· Hidrogén infrastruktúra: A kriogén minőségű változatok (20K-ig tesztelve) megakadályozzák a hidrogén ridegedését a folyékony H₂ tároló ablakokban.

XKH szolgáltatások és ellátási lehetőségek

1. Egyedi gyártási szolgáltatások

· Rajzalapú testreszabás: Nem szabványos terveket támogat (1 mm-től 300 mm-es méretekig), 20 napos gyors szállítást és 4 héten belüli első prototípus-készítést.

· Bevonati megoldások: Tükröződésgátló (AR), szennyeződésgátló (AF) és hullámhossz-specifikus bevonatok (UV/IR) a visszaverődési veszteségek minimalizálása érdekében.

· Precíziós polírozás és tesztelés: Az atomi szintű polírozás ≤0,5 nm felületi érdességet ér el, az interferometria pedig biztosítja a λ/10 síkfelületi megfelelőséget.

2. Ellátási lánc és műszaki támogatás

· Vertikális integráció: Teljes folyamatvezérlés a kristálynövekedéstől (Czochralski-módszer) a vágáson, polírozáson és bevonáson át, garantálva az anyag tisztaságát (üreg-/határmentesség) és a tételkonzisztenciáját.

· Iparági együttműködés: Repülőgépipari vállalkozók által tanúsított; a CAS-szal partnerségben szuperrácsos heterostruktúrák fejlesztése hazai helyettesítésre.

3. Termékportfólió és logisztika

· Standard készlet: 6 hüvelykes és 12 hüvelykes ostyaformátumok; egységár 43-82 között (mérettől/bevonattól függően), aznapi szállítással.

· Alkalmazásspecifikus tervekhez kapcsolódó műszaki tanácsadás (pl. vákuumkamrákhoz lépcsős ablakok, hősokk-álló szerkezetek).