zafíröntvény 3 hüvelykes 4 hüvelykes 6 hüvelykes monokristályos CZ KY módszerrel testreszabható
Főbb jellemzők
Kivételes tisztaság és minőség:
A zafíröntvények nagy tisztaságú alumínium-oxidból (99,999%) készülnek, ami hibátlan monokristályos szerkezetet biztosít. A gyártás során alkalmazott fejlett kristálynövekedési technikák minimalizálják a pórusok, csorbulások és ikrek kialakulásának hibáit, így minimális elmozdulással és kivételes teljesítménnyel rendelkező öntvényeket eredményeznek.
Sokoldalú méretezés és testreszabás:
A 3 hüvelykes, 4 hüvelykes és 6 hüvelykes szabványátmérőkben kínált tuskók teljes mértékben testreszabhatók, hogy megfeleljenek az adott alkalmazások egyedi követelményeinek. A testreszabások magukban foglalhatják az átmérőt, a hosszúságot, az orientációt és a felületkezelést, így széles körű iparágak számára alkalmasak.
Széles optikai átlátszóság:
A zafír kiváló átlátszóságot mutat széles hullámhossztartományban, az ultraibolya (150 nm) tartománytól a közép-infravörös (5500 nm) tartományig. Ez ideálissá teszi olyan optikai alkalmazásokhoz, amelyek nagy tisztaságot és minimális abszorpciót igényelnek.
Kiemelkedő mechanikai tulajdonságok:
A Mohs-féle keménységi skálán a 9. helyen álló zafír keménységben csak a gyémánt után áll. Ez kivételes karcállóságot és tartósságot biztosít, így hosszú élettartamot biztosít zord környezetben.
Termikus és kémiai stabilitás:
A zafíröntvények akár 2000°C-os szélsőséges hőmérsékletet is elviselnek anélkül, hogy épségük veszélybe kerülne. Kémiailag inertek is, kiválóan ellenállnak savaknak, lúgoknak és más korrozív anyagoknak.
Gyártási folyamatok
Czochralski (CZ) módszer:
Ez a technika magában foglalja az egykristály kinyerését az olvadt alumínium-oxid fürdőből precíz hő- és forgásvezérléssel.
Kiváló minőségű, alacsony hibasűrűségű öntvényeket állít elő, ideális félvezetőkhöz és optikához.
Kyropoulos (KY) módszer:
Ez az eljárás nagy, kiváló minőségű zafírkristályokat növeszt az olvadt alumínium-oxid lassú hűtésével.
A KY-ban növesztett zafíröntvények különösen értékesek alacsony feszültségük és egyenletes tulajdonságaik miatt, így ideálisak nagy teljesítményű alkalmazásokhoz.
Mindkét módszert úgy tervezték, hogy kiváló tisztaságú, minimális diszlokációsűrűségű (EPD ≤ 1000/cm²) és állandó fizikai tulajdonságokkal rendelkező öntvényeket eredményezzen.
Alkalmazások
Optika:
Lencsék és ablakok: Nagy teljesítményű optikai alkatrészekben, például lencsékben, prizmákban és ablakokban használják kamerákhoz, teleszkópokhoz és mikroszkópokhoz.
Lézerrendszerek: A Sapphire nagyfokú átlátszósága és tartóssága alkalmassá teszi lézerablakokhoz és más precíziós műszerekhez.
Elektronika:
Hordozók: A zafír a LED-ek, RFIC-k (rádiófrekvenciás integrált áramkörök) és a teljesítményelektronika kedvelt hordozóanyaga szigetelő tulajdonságai és hővezető képessége miatt.
Nagyfrekvenciás eszközök: Megbízható teljesítményt biztosít igényes telekommunikációs és mikroelektronikai alkalmazásokban.
Repülés és védelem:
Rakétakupakok: Magas hő- és mechanikai stabilitásának köszönhetően a zafírt védő rakétakupakokhoz és érzékelőablakokhoz használják.
Páncél és pajzs: Optikai tisztaság és ütésállóság kombinációját biztosítja a védőfelszerelések számára.
Luxuscikkek:
Óraüvegek: A zafír karcállósága teszi a csúcskategóriás óraszámlapok anyagává.
Dekoratív elemek: A zafír átlátszóságát és esztétikai vonzerejét prémium ékszerekben és kiegészítőkben használják ki.
Orvosi és tudományos eszközök:
A zafír kémiai inertsége és biokompatibilitása ideálissá teszi orvosi műszerekhez és biomedicinális képalkotó rendszerekhez.
Műszaki adatok
Paraméter | Specifikáció |
Anyag | Monokristályos alumínium-oxid (Al₂O₃) |
Átmérő opciók | 3 hüvelykes, 4 hüvelykes, 6 hüvelykes |
Hossz | Testreszabható |
Hiba sűrűsége | ≤10% |
Marási gödör sűrűsége (EPD) | ≤1000/cm² |
Felületi orientáció | (0001) (tengelyen ±0,25°) |
Felületkezelés | Vágva vagy polírozva |
Termikus stabilitás | Akár 2000°C-ig is ellenáll a hőmérsékletnek |
Vegyi ellenállás | Kiválóan ellenáll savaknak, lúgoknak és oldószereknek |
Testreszabási lehetőségek
Zafíröntvényeink az adott projekt követelményeihez igazíthatók:
Méretek: Egyedi átmérők és hosszúságok a 3, 4 és 6 hüvelykes szabványméreteken túl.
Felületi orientáció: Specifikus kristálytani orientációk (pl. (0001), (10-10)) állnak rendelkezésre.
Felületkezelés: A funkcionális és esztétikai igények kielégítése érdekében a lehetőségek közé tartoznak a vágott, csiszolt vagy polírozott felületek.
Lakáskonfigurációk: Elsődleges és másodlagos lakások a megrendelő igényei szerint biztosíthatók.
Miért válassza zafíröntvényeinket?
Kompromisszumok nélküli minőség:
Zafíröntvényeink szigorú minőségellenőrzésen esnek át a kiváló optikai, termikus és mechanikai tulajdonságok biztosítása érdekében.
Fejlett gyártás:
A CZ és KY módszerek kihasználásával az alacsony hibasűrűség, a nagy tisztaság és a méretpontosság egyensúlyát érjük el.
Globális alkalmazások:
Zafíröntvényeink számos iparágat szolgálnak ki, és a vezető vállalatok bizalmát élvezik megbízhatóságuk és teljesítményük miatt.
Szakértői testreszabás:
Szorosan együttműködünk ügyfeleinkkel, hogy személyre szabott megoldásokat kínáljunk, amelyek pontosan megfelelnek a projekt specifikációinak, biztosítva a maximális értéket és hatékonyságot.
Következtetés
A 3, 4 és 6 hüvelykes átmérőjű zafíröntvények, amelyeket CZ és KY módszerekkel gyártanak, a monokristályos technológia csúcsát képviselik. Optikai tisztaságuk, kivételes tartósságuk és hőstabilitásuk nélkülözhetetlenné teszi őket az iparágakban, a high-tech elektronikától a luxuscikkekig. Testreszabható méretekkel és specifikációkkal ezek az öntvények a legigényesebb követelményeknek is megfelelnek. Lépjen velünk kapcsolatba, hogy hozzáférhessen a legmodernebb anyagokhoz, amelyek termékeit és folyamatait új kiválósági szintre emelik.