SiC kerámia effektor kezelőkar ostyahordozóhoz

Rövid leírás:

A LiNbO₃ szeletek az integrált fotonika és a precíziós akusztika aranystandardját képviselik, páratlan teljesítményt nyújtva a modern optoelektronikai rendszerekben. Vezető gyártóként tökéletesítettük ezen tervezett szubsztrátok előállításának művészetét fejlett gőzszállítási kiegyensúlyozási technikákkal, iparágvezető kristálytökéletességet elérve 50/cm² alatti hibasűrűséggel.

Az XKH gyártási kapacitása 75 mm-től 150 mm-ig terjedő átmérőket foglal magában, precíz orientációvezérléssel (X/Y/Z-vágás ±0,3°) és speciális adalékolási lehetőségekkel, beleértve a ritkaföldfémeket is. A LiNbO₃ szeletek tulajdonságainak egyedülálló kombinációja – beleértve a figyelemre méltó r₃₃ együtthatót (32±2 pm/V) és a közeli UV-től a középső IR-ig terjedő széles átlátszóságot – nélkülözhetetlenné teszi őket a következő generációs fotonikus áramkörökhöz és nagyfrekvenciás akusztikus eszközökhöz.

Küldjön nekünk e-mailt

Jellemzők

SiC kerámia effektor Kivonat

A SiC (szilícium-karbid) kerámia effektor kritikus fontosságú alkatrész a félvezetőgyártásban és a fejlett mikrogyártási környezetekben használt nagy pontosságú waferkezelő rendszerekben. A rendkívül tiszta, magas hőmérsékletű és rendkívül stabil környezetek szigorú követelményeinek kielégítésére tervezett speciális effektor megbízható és szennyeződésmentes waferszállítást biztosít a kulcsfontosságú gyártási lépések, például a litográfia, a maratás és a leválasztás során.

A szilícium-karbid kiváló anyagtulajdonságait – mint például a magas hővezető képesség, a rendkívüli keménység, a kiváló kémiai inert képesség és a minimális hőtágulás – kihasználva a SiC kerámia effektor páratlan mechanikai merevséget és méretstabilitást kínál még gyors hőciklusok vagy korrozív folyamatkamrák alatt is. Alacsony részecskeképződése és plazmaállósági tulajdonságai különösen alkalmassá teszik tisztatéri és vákuumfeldolgozási alkalmazásokhoz, ahol a lapkafelület integritásának megőrzése és a részecskeszennyeződés csökkentése kiemelkedő fontosságú.

SiC kerámia effektor Alkalmazás

1. Félvezető ostya kezelése

A SiC kerámia effektorokat széles körben használják a félvezetőiparban szilícium-lapkák kezelésére az automatizált gyártás során. Ezeket az effektorokat jellemzően robotkarokra vagy vákuumos átviteli rendszerekre szerelik, és különböző méretű, például 200 mm-es és 300 mm-es lapkák befogadására tervezték. Alapvető fontosságúak olyan folyamatokban, mint a kémiai gőzfázisú leválasztás (CVD), a fizikai gőzfázisú leválasztás (PVD), a maratás és a diffúzió – ahol a magas hőmérséklet, a vákuumfeltételek és a korrozív gázok gyakoriak. A SiC kivételes hőállósága és kémiai stabilitása ideális anyaggá teszi, amely ellenáll az ilyen zord környezeteknek anélkül, hogy degradációt tapasztalna.

2. Tisztatéri és porszívókompatibilitás

Tisztatéri és vákuumos környezetben, ahol minimalizálni kell a részecskeszennyeződést, a SiC kerámiák jelentős előnyöket kínálnak. Az anyag sűrű, sima felülete ellenáll a részecskeképződésnek, segítve a lapka integritásának megőrzését szállítás közben. Ezáltal a SiC effektorok különösen alkalmasak olyan kritikus folyamatokhoz, mint az extrém ultraibolya litográfia (EUV) és az atomréteg-leválasztás (ALD), ahol a tisztaság kulcsfontosságú. Továbbá a SiC alacsony gázkibocsátása és magas plazmaállósága megbízható teljesítményt biztosít a vákuumkamrákban, meghosszabbítva a szerszámok élettartamát és csökkentve a karbantartás gyakoriságát.

3. Nagy pontosságú pozicionáló rendszerek

A precízió és a stabilitás létfontosságú a fejlett wafer-kezelő rendszerekben, különösen a méréstechnikai, ellenőrző és illesztő berendezésekben. A SiC kerámiák rendkívül alacsony hőtágulási együtthatóval és nagy merevséggel rendelkeznek, ami lehetővé teszi, hogy a végrehajtó egység megőrizze szerkezeti pontosságát még hőciklusok vagy mechanikai terhelés alatt is. Ez biztosítja, hogy a waferek szállítás közben pontosan illeszkedjenek, minimalizálva a mikrokarcolások, az illesztési hibák vagy a mérési hibák kockázatát – ezek a tényezők egyre kritikusabbak az 5 nm alatti folyamatcsomópontoknál.

SiC kerámia effektor Tulajdonságok

1. Nagy mechanikai szilárdság és keménység

A SiC kerámiák kivételes mechanikai szilárdsággal rendelkeznek, hajlítószilárdságuk gyakran meghaladja a 400 MPa-t, Vickers-keménységük pedig a 2000 HV-t. Ezáltal rendkívül ellenállóak a mechanikai igénybevétellel, ütésekkel és kopással szemben, még hosszabb üzemi használat után is. A SiC nagy merevsége minimalizálja a nagysebességű szeletátvitel során fellépő elhajlást, biztosítva a pontos és megismételhető pozicionálást.

2. Kiváló hőstabilitás

A SiC kerámiák egyik legértékesebb tulajdonsága, hogy rendkívül magas hőmérsékleteket – gyakran akár 1600 °C-ot inert atmoszférában – is elviselnek anélkül, hogy elveszítenék mechanikai integritásukat. Alacsony hőtágulási együtthatójuk (~4,0 x 10⁻⁶ /K) biztosítja a méretstabilitást hőciklusok alatt, így ideálisak olyan alkalmazásokhoz, mint a CVD, PVD és a magas hőmérsékletű lágyítás.

SiC kerámia effektor kérdések és válaszok

K: Milyen anyagot használnak a lapkavég-effektorban?

A：A lapkavég-effektorokat általában olyan anyagokból készítik, amelyek nagy szilárdságúak, hőstabilak és alacsony részecskeképződéssel rendelkeznek. Ezek közül a szilícium-karbid (SiC) kerámia az egyik legfejlettebb és legelőnyösebb anyag. A SiC kerámiák rendkívül kemények, hőstabilak, kémiailag inertek és kopásállóak, így ideálisak kényes szilícium-lapkák tisztatéri és vákuumkörnyezetben történő kezelésére. A kvarchoz vagy a bevonatos fémekhez képest a SiC kiváló méretstabilitást biztosít magas hőmérsékleten, és nem hullat le részecskéit, ami segít megelőzni a szennyeződést.