SiC kerámia lemez/tálca 4 és 6 hüvelykes ICP ostyatartóhoz

Rövid leírás:

A SiC kerámia lemez egy nagy teljesítményű, nagy tisztaságú szilícium-karbidból készült alkatrész, amelyet extrém termikus, kémiai és mechanikai környezetben való használatra terveztek. Kivételes keménységéről, hővezető képességéről és korrózióállóságáról ismert SiC lemezt széles körben használják ostyahordozóként, szuszceptorként vagy szerkezeti elemként a félvezető-, LED-, fotovoltaikus és repülőgépiparban.


  • :
  • Jellemzők

    SiC kerámia lemez Absztrakt

    A SiC kerámia lemez egy nagy teljesítményű, nagy tisztaságú szilícium-karbidból készült alkatrész, amelyet extrém termikus, kémiai és mechanikai környezetben való használatra terveztek. Kivételes keménységéről, hővezető képességéről és korrózióállóságáról ismert SiC lemezt széles körben használják ostyahordozóként, szuszceptorként vagy szerkezeti elemként a félvezető-, LED-, fotovoltaikus és repülőgépiparban.

     

    Kiemelkedő, akár 1600°C-ig terjedő hőstabilitásával, valamint a reaktív gázokkal és plazmakörnyezettel szembeni kiváló ellenállásával a SiC lemez állandó teljesítményt biztosít a magas hőmérsékletű maratás, leválasztás és diffúziós folyamatok során. Sűrű, nem porózus mikroszerkezete minimalizálja a részecskeképződést, így ideális ultratiszta alkalmazásokhoz vákuum- vagy tisztatéri környezetben.

    SiC kerámia lemez Alkalmazás

    1. Félvezetőgyártás

    A SiC kerámialemezeket gyakran használják ostyahordozóként, szuszceptorként és talapzatlemezként félvezetőgyártó berendezésekben, például CVD (kémiai gőzfázisú leválasztás), PVD (fizikai gőzfázisú leválasztás) és maratási rendszerekben. Kiváló hővezető képességük és alacsony hőtágulásuk lehetővé teszi számukra az egyenletes hőmérséklet-eloszlás fenntartását, ami kritikus fontosságú a nagy pontosságú ostyafeldolgozáshoz. A SiC korrozív gázokkal és plazmákkal szembeni ellenállása tartósságot biztosít a zord környezetben, segítve a részecskeszennyeződés és a berendezések karbantartásának csökkentését.

    2. LED ipar – ICP maratás

    A LED-gyártásban a SiC lemezek kulcsfontosságú alkatrészek az ICP (induktív csatolású plazma) marórendszerekben. Lapkatartóként működve stabil és hőálló platformot biztosítanak a zafír vagy GaN lapkák plazmafeldolgozás során történő alátámasztására. Kiváló plazmaállóságuk, felületi síkfelületük és méretstabilitásuk hozzájárul a magas marási pontosság és egyenletesség biztosításához, ami a LED-chipek nagyobb hozamához és eszközteljesítményéhez vezet.

    3. Fotovoltaikus rendszerek (PV) és napenergia

    A SiC kerámialapokat napelemgyártásban is használják, különösen a magas hőmérsékletű szinterelési és lágyítási lépések során. Magas hőmérsékleten mutatott tehetetlenségük és a vetemedésállóságuk biztosítja a szilíciumlapkák egyenletes feldolgozását. Ezenkívül alacsony szennyeződési kockázatuk létfontosságú a fotovoltaikus cellák hatékonyságának fenntartásához.

    SiC kerámia lemez tulajdonságai

    1. Kivételes mechanikai szilárdság és keménység

    A SiC kerámia lemezek nagyon nagy mechanikai szilárdsággal rendelkeznek, tipikus hajlítószilárdságuk meghaladja a 400 MPa-t, Vickers-keménységük pedig eléri a >2000 HV-t. Ezáltal rendkívül ellenállóak a mechanikai kopással, kopással és deformációval szemben, így hosszú élettartamot biztosítanak még nagy terhelés vagy ismételt hőciklusok esetén is.

    2. Magas hővezető képesség

    A SiC kiváló hővezető képességgel rendelkezik (jellemzően 120–200 W/m·K), ami lehetővé teszi a hő egyenletes eloszlását a felületén. Ez a tulajdonság kritikus fontosságú olyan folyamatokban, mint a lapkamaratás, a leválasztás vagy a szinterezés, ahol a hőmérséklet egyenletessége közvetlenül befolyásolja a termék hozamát és minőségét.

    3. Kiváló hőstabilitás

    Magas olvadáspontjukkal (2700 °C) és alacsony hőtágulási együtthatójukkal (4,0 × 10⁻⁶/K) a SiC kerámialemezek gyors fűtési és hűtési ciklusok alatt is megőrzik méretpontosságukat és szerkezeti integritásukat. Ez ideálissá teszi őket magas hőmérsékletű kemencékben, vákuumkamrákban és plazmakörnyezetekben való alkalmazásra.

    Műszaki tulajdonságok

    Index

    Egység

    Érték

    Anyag neve

    Reakciós szinterezett szilícium-karbid

    Nyomásmentes szinterezett szilícium-karbid

    Átkristályosított szilícium-karbid

    Összetétel

    RBSiC

    SSiC

    R-SiC

    Térfogatsűrűség

    g/cm3

    3

    3,15 ± 0,03

    2,60-2,70

    Hajlító szilárdság

    MPa (kpsi)

    338(49)

    380(55)

    80-90 (20°C) 90-100 (1400°C)

    Nyomószilárdság

    MPa (kpsi)

    1120(158)

    3970(560)

    > 600

    Keménység

    Knoop

    2700

    2800

    /

    Kitartás megtörése

    MPa m1/2

    4.5

    4

    /

    Hővezető képesség

    W/mk

    95

    120

    23

    Hőtágulási együttható

    10-60,1/°C

    5

    4

    4.7

    Fajhő

    Joule/g 0k

    0,8

    0,67

    /

    Maximális hőmérséklet a levegőben

    1200

    1500

    1600

    Rugalmas modulus

    GPA

    360 fok

    410

    240

     

    SiC kerámialap Kérdések és válaszok

    K: Milyen tulajdonságai vannak a szilícium-karbid lemeznek?

    A: A szilícium-karbid (SiC) lemezek nagy szilárdságukról, keménységükről és hőstabilitásukról ismertek. Kiváló hővezető képességgel és alacsony hőtágulási képességgel rendelkeznek, így megbízható teljesítményt biztosítanak szélsőséges hőmérsékletek mellett is. A SiC kémiailag inert, ellenáll a savaknak, lúgoknak és plazmakörnyezetnek, így ideális félvezető- és LED-feldolgozáshoz. Sűrű, sima felülete minimalizálja a részecskeképződést, így megőrzi a tisztatéri kompatibilitást. A SiC lemezeket széles körben használják ostyahordozóként, szuszceptorként és tartóelemként magas hőmérsékletű és korrozív környezetben a félvezető-, fotovoltaikus- és repülőgépiparban.

    SiC tálca06
    SiC tálca05
    SiC tálca01

  • Előző:
  • Következő:

  • Írd ide az üzenetedet, és küldd el nekünk