8 hüvelykes szilíciumlapka P/N típusú (100) 1-100Ω ál-regeneráló szubsztrát

Rövid leírás:

Nagy készlet kétoldalas polírozott szeletekből, minden szelet 50-től 400 mm átmérőig. Ha az Ön specifikációja nem található meg a készletünkben, hosszú távú kapcsolatot ápolunk számos beszállítóval, akik képesek egyedi specifikációknak megfelelő szeleteket gyártani. A kétoldalas polírozott szeletek használhatók szilíciumhoz, üveghez és más, a félvezetőiparban általánosan használt anyagokhoz.

Küldjön nekünk e-mailt

Termék részletei

Termékcímkék

Ostyadoboz bevezetése

A 8 hüvelykes szilíciumlap egy gyakran használt szilícium hordozóanyag, és széles körben alkalmazzák az integrált áramkörök gyártási folyamatában. Az ilyen szilíciumlapokat általában különféle integrált áramkörök, többek között mikroprocesszorok, memóriachipek, érzékelők és más elektronikus eszközök gyártásához használják. A 8 hüvelykes szilíciumlapokat általában viszonylag nagy méretű chipek gyártására használják, amelyek előnyei közé tartozik a nagyobb felület és az a képesség, hogy egyetlen szilíciumlapon több chipet lehet előállítani, ami a termelési hatékonyság növekedéséhez vezet. A 8 hüvelykes szilíciumlap jó mechanikai és kémiai tulajdonságokkal is rendelkezik, ami alkalmas nagyméretű integrált áramkörök gyártására.

Termékjellemzők

8"-os P/N típusú, polírozott szilícium lapka (25 db)

Tájolás: 200

Ellenállás: 0,1 - 40 ohm•cm (tételenként változhat)

Vastagság: 725+/-20µm

Prime/Monitor/Teszt fokozat

ANYAGTULAJDONSÁGOK

Paraméter	Jellegzetes
Típus/Adalékanyag	P, Bór-N, Foszfor-N, Antimon-N, Arzén
Tájolások	<100>, <111> szeletelési irányok az ügyfél specifikációi szerint
Oxigéntartalom	10¹⁹ppmA Egyedi tűrések az ügyfél specifikációja szerint
Széntartalom	< 0,6 ppmA

MECHANIKAI TULAJDONSÁGOK

Paraméter	Elsődleges	Monitor/Teszt A	Teszt
Átmérő	200±0,2 mm	200 ± 0,2 mm	200 ± 0,5 mm
Vastagság	725±20µm (standard)	725±25µm (standard) 450±25µm 625±25µm 1000±25µm 1300±25µm 1500±25 µm	725±50µm (standard)
TTV	< 5 µm	< 10 µm	< 15 µm
Íj	< 30 µm	< 30 µm	< 50 µm
Betakar	< 30 µm	< 30 µm	< 50 µm
Élkerekítés	FÉLIZIKUS
Jelzés	Csak elsődleges féllakásos, félig standard lakások Jeida lakás, Notch

Paraméter	Elsődleges	Monitor/Teszt A	Teszt
Elülső oldal kritériumai
Felületi állapot	Kémiai mechanikai polírozás	Kémiai mechanikai polírozás	Kémiai mechanikai polírozás
Felületi érdesség	< 2 A°	< 2 A°	< 2 A°
Szennyeződés Részecskék @ >0,3 µm	= 20	= 20	= 30
Köd, gödrök Narancshéj	Egyik sem	Egyik sem	Egyik sem
Fűrész, jelek Csíkosodások	Egyik sem	Egyik sem	Egyik sem
Hátoldali kritériumok
Repedések, szarkalábak, fűrésznyomok, foltok	Egyik sem	Egyik sem	Egyik sem
Felületi állapot	Maratott maratás